日本芯片公司社長：追求獨立自主，所有零件自己造，最終面臨失敗

前沿導讀

據《日經BP》新聞指出， 日本曾經是全球半導體產業的霸主，并且統治了全球光刻機市場，但是如今卻輸給了荷蘭的ASML。甚至日本最先進的半導體公司Rapidus，都已經引進ASML的EUV光刻機來制造先進芯片。

Rapidus公司的社長小池淳義在接受日經新聞記者采訪時指出：什么都想自己做，追求在技術上面的獨立自主，這是日本半導體產業失敗的主要原因。瞄準尖端芯片技術的Rapidus，未來將會與美國的IBM、IMEC（比利時微電子研究中心）等機構密切合作，掌握技術主導權。

參考資料：
阿斯麥為何能超越尼康和佳能？

• https://mp.weixin.qq.com/s/Pg14NLCRxTvcRf3s8GZOkg

獨立自主

在上世紀90年代，尼康和佳能是全球光刻機產業的霸主。而1984年才成立的荷蘭ASML，還只是一個因為被母公司飛利浦嫌棄花錢太多，從而獨立出來的新光刻機企業。

在尼康和佳能發展起來之前，美國的GCA和珀金埃爾默是光刻機市場的初代霸主。

但是美國光刻機企業仗著自家產品的市場占比較高，開始慢待客戶，甚至還會優先滿足于美國本土客戶，然后才輪到其他海外企業。哪怕是海外企業采購光刻機的訂單時間比美國本土企業早，GCA和珀金埃爾默也會優先給美國企業供貨。

在這種情況下，日本政府推出了超大規模集成電路計劃（VLSI），聯合尼康、佳能、索尼、東芝、NEC、富士、東京電子等日本頂尖的科技企業發展半導體技術，提升日本半導體全產業鏈的競爭力。

尼康和佳能承擔光刻機項目的研發，本身這兩家企業就是傳統的光學巨頭，擁有制造光學鏡頭及工業設備的技術工廠，再加上日本的東京應化、富士公司所制造的配套材料，尼康率先完成了光刻機的整機研發并交付給東芝等企業制造芯片，佳能緊隨其后。

而且尼康等企業注重客戶服務，在售賣光刻機的同時還附贈工程師的服務包，提供部分技術支持。這讓尼康開始在國際市場上生根發芽，那些被美國光刻機企業冷落的國際客戶紛紛開始轉向采購尼康的光刻機設備。

隨著尼康市場份額的不斷擴大，美國光刻機企業的市場份額隨之下滑，再加上美國GCA等企業常年狂妄傲慢的態度，讓其忽略了先進技術的研發，最終將光刻機市場拱手讓給了尼康和佳能。

整合技術

從2000年開始，ASML異軍突起，憑借著浸潤式技術開始搶奪尼康和佳能的光刻機市場。

尼康和佳能這種傳統的巨頭企業，都擁有獨立開發并制造光學鏡頭的能力，并且其光刻機的大部分零件均來自于日本本土的供應鏈體系。

反觀ASML，其光刻機的大部分零件需要依賴于全球供應鏈的支持，并且ASML也沒有尼康、佳能那種獨立制造光刻機鏡頭的能力，完全就是一個方案的整合商。

就是這么一個技術方案的整合商，卻成為了如今光刻機產業尖端技術的唯一選手。

ASML的看家技術就兩個，一個是對準系統，一個是整合技術。

2002年，臺積電工程師林本堅開發了浸潤式技術，在鏡頭和光刻膠之間加入超純水，193nm的波長打入水中形成折射，波長縮短至134nm。此時的尼康正在通過提升鏡頭的硬件素質，試圖將193nm的波長縮短至157nm，制造更先進的芯片。

林本堅帶著浸潤式技術尋求合作，尼康已經在157nm波長上投入太多資源，直接拒絕了林本堅的方案。而ASML選擇與林本堅合作，開發出了后來劃時代的浸潤式光刻機。

而真正讓ASML通吃市場的產品，則是擁有雙工作臺（代號NXT）的“TWINSCAN”系列光刻機。

TWINSCAN NXT：1950i，這是ASML第一款支持雙工作臺的浸潤式光刻機。

該設備可以并行處理兩枚晶圓，一邊進行曝光，另一邊進行測量，并且ASML的晶圓對準系統很強大，這直接提升了光刻機的制造效率。ASML后續制造的EUV光刻機，也是采用了這種技術體系。

在制造浸潤式光刻機的同時，ASML還與美國達成合作，共同推進EUV技術的落地。

并且ASML的供應鏈全都是世界頂級的存在，德國蔡司是ASML全球唯一的鏡頭及曝光系統供應商。盡管在某些關鍵技術上依賴于單一供應商的風險很大，但是除德國蔡司之外，其他企業并沒有能力制造出足以商業化的整套EUV曝光系統。

荷蘭半導體觀察者馬克·海金克指出，當ASML將EUV設備成功量產之后，尼康在EUV領域的勝算已經幾乎沒有了。其他競爭對手可以嘗試挑戰ASML的EUV技術，但是想要跟ASML一樣量產商用，目前還未看到有競爭者成功過。