浙江
荷蘭半導體設備制造商阿斯麥（ASML）周二表示，英特爾已決定采用其高端光刻機設備來制造部分旗艦級Panther Lake筆記本電腦芯片。此舉旨在幫助這家芯片巨頭在實操中更高效地掌握該先進設備的使用。
阿斯麥表示，繼2024年啟動相關實驗后，英特爾現已開始將其新一代高數值孔徑（High NA）極紫外（EUV）光刻機投入使用。該設備主要用于在微芯片上印制微縮電路圖案，從而協助生產部分Panther Lake處理器。
針對在何時部署High NA設備才具備商業意義的問題，半導體行業內一直存在爭論。但隨著芯片制造商需要不斷縮小芯片內部原子級的微觀結構尺寸，未來此類設備將成為行業剛需。據悉，High NA光刻機單臺造價高達約4億美元，是標準EUV設備價格的兩倍，且將其引入實際生產流程在技術上也面臨著極大挑戰。
目前，英特爾主要在芯片的特定層位上使用High NA設備，此舉將幫助英特爾與阿斯麥共同收集測試數據并對設備進行持續優化。英特爾方面對該消息拒絕置評。
據了解，英特爾正在采用其18A制造工藝來生產Panther Lake芯片，此前已經在生產中使用了阿斯麥的標準EUV光刻機（光刻工藝主要是通過光線來繪制構成芯片電路的復雜圖案）。早在2024年，英特爾就已在其位于俄勒岡州希爾斯伯勒（Hillsboro）的研發中心接收了首臺High NA設備，該中心也是英特爾研發全新制造工藝和技術的核心基地。
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