美國為鎖死中國的光刻機(jī)作垂死掙扎

彭博社6月19日報(bào)道，美國商務(wù)部長盧特尼克近期在一場閉門會談中，向阿斯麥（ASML）CEO傅恪禮等高層表達(dá)“嚴(yán)峻關(guān)切”，稱該公司一臺極紫外（EUV）光刻機(jī)可能違反出口管制流入中國大陸。阿斯麥當(dāng)即否認(rèn)，強(qiáng)調(diào)從未向中國發(fā)運(yùn)過任何EUV機(jī)器或?qū)槠湓O(shè)計(jì)的組件。

這事透著蹊蹺。美國官員聲稱“掌握證據(jù)”表明阿斯麥向中國出口了EUV相關(guān)設(shè)備，但以“信息敏感”為由拒絕公開任何佐證。彭博社追問：若有證據(jù)，為何不采取更強(qiáng)硬措施？美方官員拒絕回答。一邊言之鑿鑿說有證據(jù)，一邊死活不肯拿出來證據(jù)。

雖然美國拿不出證據(jù)，但ASML有。他們向美方提交了一份名為《沒有任何跡象表明ASML EUV系統(tǒng)在中國大陸》的文件：全球314臺在運(yùn)行、26臺已退役的EUV機(jī)器，中國境內(nèi)數(shù)量為零。由于每臺機(jī)器都內(nèi)置自動(dòng)檢測系統(tǒng)，任何異常行為都能被追蹤，所以阿斯麥篤定地表示，客戶未經(jīng)ASML介入無法自行拆卸、運(yùn)輸或搬遷。

美方的“懷疑”，與其說是基于證據(jù)，不如說是基于“我不信你沒干”的政治本能。更深層看，這更像一場精心策劃的施壓——美國正在推動(dòng)將出口管制從EUV擴(kuò)大到DUV，企圖鎖死中國從高端到成熟制程的全部芯片產(chǎn)能。借“EUV可能流入中國”敲打ASML和荷蘭，逼他們進(jìn)一步收緊對華出口，才是真正的目的。至于ASML有沒有真的賣給中國EUV，根本不重要。

看了這個(gè)消息，我們中國人應(yīng)該心中有數(shù)。這大概率是中國徹底突破光刻機(jī)技術(shù)之前，美國最后一次無謂的垂死掙扎。

去年，國產(chǎn)光刻機(jī)技術(shù)已在多領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)關(guān)鍵突破，形成從90nm到14nm制程的階梯式發(fā)展格局。上海微電子的28nm浸沒式DUV光刻機(jī)已進(jìn)入量產(chǎn)測試階段，核心部件國產(chǎn)化率超70%。中芯國際測試數(shù)據(jù)顯示，該設(shè)備良率穩(wěn)定在90%以上，成本較ASML同類產(chǎn)品低30%。

更關(guān)鍵的是，國產(chǎn)EUV光刻機(jī)已進(jìn)入原理機(jī)搭建階段，光源系統(tǒng)采用哈爾濱工業(yè)大學(xué)研發(fā)的LDP技術(shù)，核心部件全部自研。有外媒報(bào)道稱，國產(chǎn)EUV原型機(jī)已于2025年底完成，預(yù)計(jì)2026年晚些時(shí)候即可產(chǎn)出第一批“EUV精煉”芯片。

一些所謂專家以為，中國的光刻機(jī)得遵循DUV光刻機(jī)-EUV光刻機(jī)的路徑，像阿斯麥那樣上個(gè)坑一個(gè)坑踩。殊不知，我們擁有后發(fā)優(yōu)勢，發(fā)展路徑是DUV光刻機(jī)、EUV光刻機(jī)齊頭并進(jìn)。DUV光刻機(jī)成熟的時(shí)候，EUV光刻機(jī)也差不多開發(fā)出來了。

坊間估計(jì)，2030年前中國能在DUV光刻機(jī)領(lǐng)域與阿斯麥并駕齊驅(qū)，EUV光刻機(jī)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破并規(guī)模量產(chǎn)，這也是華為有底氣說在2031年實(shí)現(xiàn)等效1.4nm。一切都在計(jì)劃中，一切都在預(yù)料中，我相信美國的情報(bào)機(jī)構(gòu)是明白的。

與此同時(shí)，中國企業(yè)還在探索一條完全繞開ASML的技術(shù)路線。2026年6月5日，璞璘科技交付了國產(chǎn)首臺真空氣壓式晶圓級納米壓印光刻機(jī)，成功實(shí)現(xiàn)8英寸光芯片規(guī)模化量產(chǎn)，完全繞開傳統(tǒng)DUV光刻路線，將制造成本壓縮至DUV方案的十分之一。

美國越是瘋狂施壓，越是說明它已經(jīng)預(yù)感到——那個(gè)靠光刻機(jī)卡中國脖子的時(shí)代，很快就要結(jié)束了。