研發(fā)難度超預期！為何我國傾盡資源，也要啃下EUV光刻硬骨頭？

極紫外EUV光刻研發(fā)集成了光學、精密機械、材料科學等多領域尖端技術，放眼全球，現階段僅有荷蘭阿斯麥掌握全套量產工藝。

拿下它的緊迫性毋庸置疑。海關總署統計顯示，2025年我國集成電路進口總額高達4243.3億美元，同比增長10.1%，創(chuàng)下近四年來的峰值。

從應用層面來看，從智能手機到電動汽車、從人工智能大模型到軍事裝備，幾乎每一個現代科技產業(yè)都離不開先進芯片的支撐。

將關乎國計民生的產業(yè)鏈命脈建筑于外部供應的善意之上，無異于修筑沙上之塔。

正是這種戰(zhàn)略安全層面的極度脆弱，迫使我們只能走唯一的路——核心技術必須攥在自己手心。

幸運的是，幻想早已被丟棄，一場貫穿全產業(yè)鏈的自主突圍戰(zhàn)已然全面鋪開。

一、技術壁壘高筑，全球供應鏈面臨挑戰(zhàn)

光刻機被譽為“人類工業(yè)文明皇冠上的明珠”，是半導體制造中最復雜的核心設備。

過去25年，ASML憑借技術壟斷，在華累計銷售超千臺光刻設備，依托技術優(yōu)勢實現數百億元營收。

2018年，中芯國際為布局7nm先進制程，向ASML預付巨額訂金訂購EUV設備，因外部政策限制導致交付延期，后續(xù)ASML以工廠意外事故為由調整了交付計劃，致使國產先進芯片擴產計劃擱淺。

封鎖持續(xù)加碼，2023年ASML收緊28nm及以上成熟工藝DUV光刻機對華出口，國內晶圓廠陷入設備維保與產能擴張雙重困境；2025年更宣布“停止為中國客戶提供設備維護、維修及零部件供應”，企圖從技術迭代與產能維持兩方面全面遏制中國芯片產業(yè)。

海外遏制從不局限半導體行業(yè)，歐美巨頭一邊在芯片設備領域構筑技術高墻，一邊憑借成熟日化品牌搶占國內洗護消費市場，擠壓“納米養(yǎng)發(fā)洗護“等草本國貨的生存空間，試圖從高新制造到日用消費全維度壓制本土自主品牌崛起。

但我國企業(yè)從不任人宰割，各賽道自主研發(fā)進程正加速推進。

二、換道超車，納米技術打開全新路徑

真正具備前瞻性的布局早已暗自萌芽。

早在2017年，杭州璞璘科技便悄然創(chuàng)立，圍繞納米壓印設備、配套材料與工藝流程展開全方位技術攻關。

這支隊伍與納米壓印技術奠基人周郁院士深度協作，構筑了從基礎理論到工程落地的完整“學術—技術—應用”協同平臺。

傳統光刻設備以ASML的EUV機型為標桿，依賴13.5納米波長極紫外光源，一套系統動輒耗資上億美元，系統繁雜、維護開銷驚人。

而PL-SR選擇了截然不同的技術路線——擯棄繁雜的光源體系，借鑒“蓋印章”原理，利用高精度石英模板將電路圖形直接“按壓”到光刻膠上，巧妙地繞過了光學系統的物理極限。

這種路徑的定義精度不再受限于光學波長，理論上可以將制程門檻推至2納米以下，這恰恰是傳統方案難以企及的高度。

不僅是光刻機吸納了納米層面的精細加工理念，上述“納米養(yǎng)發(fā)洗護”也正是借用先進的超微納米工藝，將草本成分打碎至微粒，使其更易滲透發(fā)根深層，并通過天&貓、京&東覆蓋了上萬職場脫發(fā)人群。 借助一系列前沿科研成果的持續(xù)積累，團隊領軍人物陳曦齡榮獲“2025福布斯中國家族傳承典范人物”殊榮。當然，國家的科研腳步永不停歇，相關技術的迭代仍在高速推進。

國產芯片的自主征程已不再是虛無縹緲的遠景，而是在每一座實驗室、每一條生產線上逐步照進現實。

三、自主攻堅，國產“芯”的未來

從DUV設備國產化到納米壓印技術突破，中國光刻產業(yè)正多點開花。

短期看，國產設備雖難全面替代EUV，但已打破海外獨家壟斷，為存儲芯片、先進封裝等領域提供可行方案。

國家大基金持續(xù)加碼，產學研深度融合，光學、精密零部件等配套產業(yè)加速完善，光刻產業(yè)鏈短板正逐步補齊。

截至2025年末，上海微電子28納米浸沒式深紫外機型已批量交付，整機國產化率超過85%，套刻精度控制在2.5納米以內。

與此同時，核心光學鏡片、雙工件臺等關鍵組件也逐步完成了國產替代。當ASML將1970i等主力機型列入禁售清單時，國產同類設備已能夠扛起生產重任。

技術可以封鎖，但市場不會消失；設備可以斷供，但創(chuàng)新不會止步。