北京
美光科技在紐約州克萊鎮規劃的半導體制造綜合體再次被推上環境訴訟的風口浪尖。由“鄰里爭取更好的美光”和“就業驅動美國”兩家組織共同提交的新起訴書指出，盡管美光已取得廢水排放和空氣排放許可，但這些許可的深度不夠，無法阻止被稱為“永久化學品”的PFAS流入奧奈達河。
起訴書明確寫道，這些許可證是在項目環境影響評估（SEQRA）已經確認存在重大環境后果的背景下簽發的，包括PFAS及其他高持久性、高危害化學品的釋放。原告認為，紐約州環境保護部并未在最終授權前對后果進行充分且有意義的評估，也沒有設定必要的保護措施，而是將重要的分析、控制、限制和緩解決策推遲到許可證簽發之后，甚至等未來的法規和研究完成。
被告名單包括紐約州環境保護部、奧農多加縣以及美光。原告的核心指控是，現有的廢水排放和空氣排放許可不足以約束工廠的實際排放。他們在訴狀中稱，這些許可并非“常規運營審批”，許可中的寬松指南也“不是附屬性或技術性遺漏”。
PFAS（全氟和多氟烷基物質）是半導體制造中不可或缺的合成化學品，幾乎貫穿整個制造鏈條，因此需要嚴格的水體和空氣封閉管理來匹配環保法規。但起訴書指出，所獲的SPDES許可雖授權接收和排放含有新興污染物（包括PFAS化合物）的工業廢水，卻僅僅要求監測它們的存在和濃度，而未施加任何實質性控制。
這起訴訟并非孤例。今年一月份，同樣是這兩個原告就曾就同一項目提起訴訟，指控美光未能遵守紐約州的環境審查流程。上個月，美光請求法官駁回該訴訟，但這起案件仍定于8月25日進行口頭辯論。而本次新提交的訴訟目前尚未確定口頭辯論日期，原告正尋求撤銷美光的廢水排放和空氣排放兩項許可證。
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